Semiconductor
12 inch Vertical
半导体扩散炉业务
12 inch 立式扩散炉
基本规格
- 晶圆尺寸 200mm
- 生产晶圆量 100(Dual Boat)
- 工艺应用 N2 Anneal
- 设备尺寸 可定制选项
- 晶圆装载 全自动
- 晶圆映射传感器 已配置
- 加热控制区 5区
- 等温区 860mm
- 主控系统 PLC + PC 控制
- 晶圆机械手类型 Vaccum chuck(5)
- MES, FDC 控制 支持
硬件性能
- 控温精度 设定值/实际值 : ≤0.5°C
- 气体流量控制 设定值/实际值 : ≤1.0°C
- 晶圆破损率 0.01%
- 安全防护 安全联锁, 映射传感器, 漏气检测仪
工艺性能
- 微粒 小于 20ea (0.16um)
- 产能 200 wafer/hour
合作伙伴
- 主要客户 SK SILTRON