P&TECH Co., Ltd.

半导体扩散炉业务

低压退火炉

LP-Anneal

晶圆

  • 晶圆尺寸 6", 8"

设备类型

  • 类型 卧式炉

设备容量

  • 晶圆装载量 150~300pcs

晶圆装载

  • 晶舟进料方式 软 landing 方式
  • 自动化控制 手动式
  • 晶舟进料速度 50mm~1500mm/min
  • 桨叶材质 SiC 桨叶
  • 桨叶驱动方式 交流电机, 直线导轨/滚珠丝杠

加热器

  • 加热器类型 RC 加热器
  • 温度范围 100~500°C

工艺构件

  • 极限压力 10-7 Torr
  • 真空泵规格 分子泵 + 干泵

软件与控制器

  • 主控系统 三菱 PLC
  • 温控器 横河 UT55A

合作伙伴

  • 主要客户 SK Hynix System IC, Silan, LION