Semiconductor
8 inch Vertical
半导体扩散炉业务
8 inch 立式扩散炉
基本规格
- 晶圆尺寸 200mm
- 生产晶圆量 150
- 工艺应用 PYRO, LP-CVD, ANNEAL
- 设备尺寸 900(W)×4180(L)×3065(H)
- 晶圆装载 全自动
- 晶圆映射传感器 已配置
- 加热控制区 5区
- 等温区 750mm
- 主控系统 PLC + PC 控制
- 晶舟旋转功能 已配置
- MES, FDC 控制 支持
硬件性能
- 控温精度 设定值/实际值 : ≤0.5°C
- 气体流量控制 设定值/实际值 : ≤1.0°C
- 晶圆破损率 0.01%
- 安全防护 安全联锁, 映射传感器, 漏气检测仪
工艺性能
- 微粒 小于 20ea (0.16um)
- 厚度均匀性 Oxidation : ≤±1.0% / LP-CVD : ≤±2.0%
合作伙伴
- 主要客户 SK HYNIX SYS IC, NNFC, SK SILTRON